Pesquisadores do CDMF e do CINE publicaram, em janeiro, um artigo na revista Chemosphere, em que descrevem a síntese de diferentes materiais e a utilização de um deles para remoção de substâncias tóxicas, como corantes, de efluentes da indústria têxtil.
No estudo, foram sintetizados semicondutores à base de nitretos de carbono (C3N4) e vanadato de bismuto (BiVO4), sendo o material C3N4–BiVO4 utilizado como fotoânodo para fotoeletrodegradação de efluentes reais da indústria têxtil. O material mostrou grande eficiência na remoção de substâncias tóxicas com baixo consumo de energia elétrica, associado ao uso de energia solar. Os resultados sugerem que o material, de baixo custo e fácil produção, poderá ter aplicações na indústria, especialmente para o tratamento de efluentes da indústria têxtil. Sua produção pode ser combinada com a geração de hidrogênio como co-produto, que pode ser utilizado para gerar energia com diversas finalidades.
O artigo “Efficient photoelectrochemical real textile wastewater detoxification using photoanodes of C3N4–BiVO4“ é assinado por Isabelle M.D. Gonzaga, Roger Gonçalves, Carlos H.M. Fernandes, Marcelo Assis, Ivo F. Teixeira e Lucia H. Mascaro.
CDMF
Com sede na Universidade Federal de São Carlos (UFSCar) e dirigido pelo Prof. Dr. Elson Longo, o CDMF é um dos Centros de Pesquisa, Inovação e Difusão (Cepids) apoiados pela Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo (Fapesp) e recebe também investimento do Conselho Nacional de Desenvolvimento Científico e Tecnológico (CNPq), a partir do Instituto Nacional de Ciência e Tecnologia dos Materiais em Nanotecnologia (INCTMN).
