Tratamento com plasma em filmes semicondutores pode melhorar produção de hidrogênio
Agência FAPESP * – Pesquisa do Centro de Desenvolvimento de Materiais Funcionais (CDMF) e do Centro de Inovação em Novas Energias (CINE) descreveu uma abordagem inovadora de tratamento com plasma para filmes de tri-seleneto de antimônio que tornou hidrofílica sua superfície normalmente hidrofóbica, propriedade física de uma molécula que é aparentemente repelida pela água.
O material tem propriedades que o credenciam para ser utilizado como fotocatodo para geração de gás hidrogênio pelo método de divisão de molécula de água com energia solar. Mas a hidrofobia da superfície do tri-seleneto de antimônio prejudica seu desempenho na célula fotoeletroquímica, diminuindo sua capacidade de transformar energia luminosa em energia química. Obter hidrogênio com energia solar é importante porque esse gás é um forte candidato à produção de energia elétrica no futuro, inclusive em veículos.
O CDMF é um Centro de Pesquisa, Inovação e Difusão (CEPID) da FAPESP sediado na Universidade Federal de São Carlos (UFSCar), e o CINE é um Centro de Pesquisa em Engenharia (CPE) apoiado pela FAPESP e Shell.
No experimento, os pesquisadores utilizaram plasma de nitrogênio e de oxigênio para aumentar a molhabilidade (a capacidade de um líquido se manter em contato com a superfície) do material e, dessa forma, aumentar sua fotoeletroatividade na reação de desprendimento de hidrogênio. A pesquisa traz, assim, uma nova estratégia possível para melhorar a molhabilidade de semicondutores.
O estudo foi detalhado no artigo “Plasma treatment of electrodeposited Sb2Se3 thin films for improvement of solar-driven hydrogen evolution reaction, publicado no períodico Chemical Engineering Journal.
*Com informações da Assessoria de Imprensa do CDMF.
