(com informações da Assessoria de Comunicação – IFSC/USP)
O “Laboratório Avançado de Física”, do Instituto de Física de São Carlos (IFSC/USP) passará a se chamar “Laboratório Avançado de Física Máximo Siu Li”, em homenagem ao professor e pesquisador, ligado ao instituto desde seu mestrado, nos anos 1970. A cerimônia acontecerá na quarta-feira, 30 de novembro, às 10h, no edifício “Laboratórios de Ensino de Física” (LEF), no IFSC (Área-1 do Campus USP de São Carlos).
Embora esteja aposentado há cerca de dez anos, Siu Li continua atuante no IFSC. Segundo Elson Longo, diretor do Centro de Desenvolvimento de Materiais Funcionais (CDMF) e parceiro de muitas pesquisas, “o professor Máximo, há vinte anos, vem desenvolvendo trabalhos com os pesquisadores e alunos do CDMF”. Ele afirma ainda que o grupo evoluiu muito na área de fotoluminescência com o apoio do pesquisador e que a homenagem reconhece a competência e articulação do professor e pesquisador com colegas brasileiros e estrangeiros.
Para Sebastião Pratavieira, professor do IFSC, “São quatro décadas de um trabalho inacreditável no ‘Laboratório Avançado de Física’ feito pelo Prof. Máximo em duas vertentes. A primeira, diz respeito ao intenso trabalho que ele tem feito na idealização e implementação de todos os experimentos que compõem esse laboratório, que está dividido por salas temáticas, sendo que cada uma delas corresponde a um determinado tipo de experimento. A segunda vertente de seu trabalho é relativa à elaboração de apostilas e roteiros que auxiliam os alunos a encontrar os caminhos para o sucesso dos seus experimentos. Foram quatro décadas de trabalho ininterrupto nessa direção, uma atividade que não parou”.
Siu Li possui graduação em Ciências (Física) pela Universidad Nacional de Ingenieria – Peru (1968), mestrado em Física pelo Instituto de Física de São Carlos (IFSC/USP) (1973) e doutorado em Física pelo mesmo Instituto (1978). Tem experiência na área de Física, com ênfase em Física da Matéria Condensada, estudo de defeitos em sólidos, propriedades ópticas, elétricas e fotoestruturais, filmes finos por evaporação PVD, filmes finos por spin coating, absorção óptica e fotoluminescência até baixas temperaturas, e em diversos tipos de materiais, isolantes e semicondutores, cristalinos, amorfos e nanoestruturados.
