Catalisadores à base de óxido de ferro demonstram eficiência na produção de amônia

Estudo do CDMF foi descrito em artigo na Electrochimica Acta

Um artigo publicado no periódico Electrochimica Acta descreve um estudo realizado no CDMF em que se desenvolve um catalisador  óxido de ferro (FexOy) co-depositado em dissulfeto de molibdênio (MoS2) para redução de gás nitrogênio (N2).

O objetivo era produzir amônia sem o enorme consumo de energia do processo Harber-Bosch, método usual de produção da substância, que é utilizada para múltiplas finalidades, como fertilizantes ou processos industriais. Estima-se que a produção da amônia, que demanda altas temperaturas e pressões, seja responsável pelo consumo de 1% a 2% da eletricidade global e por 3% das emissões de dióxido de carbono.

Os catalisadores do estudo — preparados por eletrodeposição, método simples e barato — demonstraram grande eficiência para a produção de amônia, além de estabilidade e durabilidade. A pesquisa abre possibilidades para o emprego de catalisadores simples e baratos na produção de amônia e para a síntese de materiais amorfos visando a fixação de gás nitrogênio.

O artigo “Enhancing electrochemical N2 reduction at mild conditions with FexOy co-deposited on amorphous MoS2” é assinado por Caio V.S. Almeida e Lucia H. Mascaro.

CDMF

Com sede  na Universidade Federal de São Carlos (UFSCar) e dirigido pelo Prof. Dr. Elson Longo, o CDMF é um dos Centros de Pesquisa, Inovação e Difusão (Cepids) apoiados pela Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo (Fapesp) e recebe também investimento do Conselho Nacional de Desenvolvimento Científico e Tecnológico (CNPq), a partir do Instituto Nacional de Ciência e Tecnologia dos Materiais em Nanotecnologia (INCTMN).

Sobre LAbI UFSCar 2840 Artigos
O Laboratório Aberto de Interatividade para Disseminação do Conhecimento Científico e Tecnológico (LAbI), vinculado à Universidade Federal de São Carlos (UFSCar), é voltado à prática da divulgação científica pautada na interatividade; nas relações entre Ciência, Arte e Tecnologia.