Tratamento com plasma em filmes semicondutores pode melhorar produção de hidrogênio

Superfície hidrofóbica de tri-seleneto de antimônio tornou-se hidrofílica, melhorando seu desempenho como fotocátodo

Um artigo publicado no periódico Chemical Engineering Journal em fevereiro descreve uma abordagem inovadora de tratamento com plasma para filmes de tri-seleneto de antimônio (Sb2Se3) que tornou hidrofílica sua superfície normalmente hidrofóbica. O material tem propriedades que o credenciam para ser utilizado como fotocátodo para geração de gás hidrogênio (H2) pelo método de divisão de molécula de água com energia solar, mas a hidrofobia de sua superfície prejudica seu desempenho na célula fotoeletroquímica, ou seja, sua capacidade de transformar energia luminosa em energia química.

No experimento, os pesquisadores do CDMF e do Centro de Inovação em Novas Energias (CINE) utilizaram plasma de nitrogênio (N2) e de oxigênio  para aumentar a molhabilidade do material e, dessa forma, aumentar sua fotoeletroatividade na reação de desprendimento de hidrogênio. A pesquisa traz, assim, uma nova estratégia possível para melhorar a molhabilidade de semicondutores.

O artigo “Plasma treatment of electrodeposited Sb2Se3 thin films for improvement of solar-driven hydrogen evolution reaction” é assinado por Magno B. Costa, Moisés A. de Araújo, Robert Paiva, Sandra A. Cruz e Lucia H. Mascaro.

CDMF

Com sede  na Universidade Federal de São Carlos (UFSCar) e dirigido pelo Prof. Dr. Elson Longo, o CDMF é um dos Centros de Pesquisa, Inovação e Difusão (Cepids) apoiados pela Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo (Fapesp) e recebe também investimento do Conselho Nacional de Desenvolvimento Científico e Tecnológico (CNPq), a partir do Instituto Nacional de Ciência e Tecnologia dos Materiais em Nanotecnologia (INCTMN)

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